Participação em eventos

1. J.W.Swart, ``Formação de siliceto de titânio em ambiente de nitrogênio'', IX Congresso da SBMICRO, Rio de Janeiro.
2. J.W.Swart, ``Difusão térmica rápida de Sn e Zn em GaAs a partir de filme SOG'', XVII Encontro Nacional de Física da materia condensada, Caxambu.
3. P.J.Tatsch, ``Decapagem de fotoresiste por plasma de O2 e SF6 e a sua aplicacao no processo de fabricacao de Air Bridge'', Revisor de trabalhos, IX Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica, Rio de Janeiro.
4. J.W.Swart, ``Analysis of the etch rate limiting steps in dry etching of tungsten in fluorine containing plasmas'', 185th Meeting of the Electrochemical Soc, San Francisco.
5. J.W.Swart, IEEE GaAs IC Symposium, Philadelphia.
6. J.W.Swart, ``Metallization for GaAs ICs'', III Escola Brasileira de Microeletrônica, Campinas.