Depto. de Semicondut. Instrumentos e Fotônica
- 1.
- I.Doi, V.Baranauskas e E.A.de Brito,
``Análise da Nucleação dos Filmes de Diamante Depositados sobre Silício por Chama de Combustão de Oxiacetileno'',
XVII CBRAVIC - Congr. Bras. de Aplic. de Vácuo na Ind. e na Ciência,
ref., 10,
(1996).
- 2.
- A.C.Peterlevitz, M.K.K.Franco, M.C.Tosin, V.Baranauskas e I.Doi,
``Propriedades Foto-induzidas de Filmes de Diamante CVD sobre Silício'',
XVII CBRAVIC - Congr. Bras. de Aplic. de Vácuo na Ind. e na Ciência,
15, 1-2,
(1996).
- 3.
- P.B.Verdonck e J.W.Swart,
``Development of Spacer Etching Processing for GaAs IC Technology'',
XI Conference of The Brazilian Microelectronics Society,
1, 411-413,
(1996).
- 4.
- C.de Oliveira, P.J.Tatsch e J.W.Swart,
``Remote Plasma Chemicalj Vapor Deposition of Tungsten'',
XI Conference of The Brazilian Microelectronics Society,
1, 417-418,
(1996).
- 5.
- S.F.Durrant, A.C.Peterlevitz, W.A.Picolo, I.Doi e V.Baranauskas,
``Search for a Si-Nb-Au-O superconductor'',
XIX Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada, 182-183,
(1996).
3/2/1998