Centro de Componentes Semicondutores

Técnicas ou processos

1. L.C.Kretly e J.E.C. de Queiroz, ``Desenvolvimento de tecnica especifica para obtencao de feixe de ions de He+ com plasma auxiliar de fosforo (P) para aplicacao em implantacao ionica'', (1997).
2. L.C.Kretly e A.G. Ghilardi, ``Desenvolvimento de um reator a vacuo para plasma com alta densidade de corrente visando cescimento de filmes DCL e Al2O3. (Projeto mecanico)'', (1997).
3. L.C.Kretly e A.J.Bhertolucci Jr, ``Desenvolvimento de uma fonte de tensao para ampola de He-Ne para laser. (Adaptacao)'', (1997).
4. L.C.Kretly, E.C.Bortolucci e A.P.Sotero F. Macedo, ``Desenvolvimento de processos de litografia por feixe de eletrons'', (1997).