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Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação
 
Departamento de Máquinas Componentes e Sist. Intelig.
 
Produções / Artigos publicados em periódicos

Artigos publicados em periódicos especializados arbitrados
 
Circulação Nacional
 
1.
  GRINITS, E. V.; BOTTURA, C. P.; Sincronização de Sistemas de Chua com Melhor Desempenho Utilizando Backstepping Modificado e Computação Evolutiva, 03/2010, Controle & Automação (Impresso),Vol. 21, pp.109-116, Campinas, SP, Brasil, 2010
 
 
Circulação Internacional
 
1.
  BARRETO, G.; MIGUEL, P. V. O.; MURARI, C. A. F.; Didactic Videos About Basic Concepts on Alternating Current Circuits, 08/2010, international journal of online engineering (IJOE),Vol. 6, Fac. 3, pp.13-17, Wien, Austria, 2010 *
 
2.
  GRADOS, H. R. Jimenez; MANERA, LEANDRO TIAGO; WADA, Ricardo; DINIZ, J. A.; DOI, I.; TATSCH, Peter Jurgen; HERNANDEZ FIGUEROA, Hugo Enrique; SWART, Jacobus Willibrordus; DC Improvements and Low-Frequency 1/ Noise Characteristics of Complimentary Metal Oxide Semiconductor Transistors with a Single n -Doped Polycrystalline Si/SiGe Gate Stack, 01/2010, Japanese Journal of Applied Physics,Vol. 49, pp.1-5, Toquio, Japão, 2010 *
 
3.
  M.A., Moreira; DOI, I.; SOUZA, J. F.; DINIZ, J. A.; Electrical characterization and morphological properties of AlN films prepared by dc reactive magnetron sputtering, 07/2010, Microelectronic Engineering,Vol. 88, Fac. 5, pp.802-806, Holanda, Holanda, 2010 *
 
4.
  BARROS, Angélica Denardi de; F. ALBERTIN, K.; MIYOSHI, Juliana; DOI, I.; DINIZ, J. A.; Thin titanium oxide films deposited by e-beam evaporation with additional rapid thermal oxidation and annealing for ISFET applications, 07/2010, Microelectronic Engineering,Vol. 87, pp.443-446, Holanda, Holanda, 2010 *
 
5.
  MIYOSHI, Juliana; DINIZ, J. A.; BARROS, Angélica Denardi de; DOI, I.; VON ZUBEN, A.A.G.; Titanium aluminum oxynitride (TAON) as high-k gate dielectric for sub-32nm CMOS technology, 01/2010, Microelectronic Engineering,Vol. 87, pp.267-270, Holanda, Holanda, 2010 *
 
6.
  GRADOS, H. R. Jimenez; MANERA, LEANDRO TIAGO; F. RAUTEMBERG, M.; DINIZ, J. A.; DOI, I.; TATSCH, Peter Jurgen; HERNANDEZ FIGUEROA, Hugo Enrique; SWART, Jacobus Willibrordus; The influence of poly-Si/SiGe gate in CMOS transistors for RF and microwave circuit applications, 02/2010, Physica Status Solidi,Vol. 7, Fac. 2, pp.440-443, Berlin, Alemanha, 2010 *
 
7.
  ATAYDE, C. M.; DOI, I.; Highly stable hydrophilic surfaces of PDMS thin layer obtained by UV radiation and oxygen plasma treatments, 01/2010, Physica Status Solidi. A, Applied Research (Cessou em 2004. Cont. ISSN 1862-6300 Physica Status Solidi. A, Applications and Materials Science (Print)),Vol. 7, pp.189-192, Weinheim, Alemanha, 2010
 
8.
  GRADOS, H. R. Jimenez; MANERA, LEANDRO TIAGO; F. RAUTEMBERG, M.; DINIZ, J. A.; DOI, I.; TATSCH, Peter Jurgen; HERNANDEZ-FIGUEROA, H. E.; SWART, Jacobus Willibrordus; The influence of poly-Si/SiGe gate in CMOS transistors for RF and microwave circuit applications, 01/2010, Physica Status Solidi. A, Applied Research (Cessou em 2004. Cont. ISSN 1862-6300 Physica Status Solidi. A, Applications and Materials Science (Print)),Vol. 7, pp.440-443, Weinheim, Alemanha, 2010
 
 
* Esta produção está associada também a outros órgãos

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