Relatório Carga Fapesp

Unicamp/CC

SIPEX

Relatório Carga Fapesp / 1999

Emissão: 02/04/2002 10:55:32

CCS - CENTRO DE COMPONENTES SEMICONDUTORES

Projeto Alterado

Nome Projeto:

DESENVOLVIMENTO DE MICRO-ESTRUTURAS MECANICAS SOBRE O SILICIO ATRAVES DE CORROSAO DO SUBSTRATO PELA SUPERFICIE.

Tipo Projeto:

Pesquisa Básica

Situação Projeto:

Em Andamento

Data Início Projeto:

03/2000

Tipo Envolvimento Contrato:

Individual

Descrição Projeto:

DESENVOLVIMENTO DE MICRO-ESTRUTURAS MECANICAS SOBRE O SILICIO ATRAVES DE CORROSAO DO SUBSTRATO PELA SUPERFICIE.

Instituições

Nome:

Fundação de Anparo ao Pesquisador

Tipo do Financiamento:

Bolsa

Nº Processo na Financiadora:

1999/11348-9

Data Início Financiamento:

03/2000

Data Fim Financiamento:

200202

Valor do Financiamento em Reais R$:

31200,00

Órgãos

Orgão:

01.21.00.00.00.00.00 - CENTRO DE COMPONENTES SEMICONDUTORES

Equipes Projeto

Roberto Ribeiro Neli( Responsável )

Projeto Alterado

Nome Projeto:

ESTUDO DA CAMADA DE SI-POLI PARA PORTA DE ESTRUTURAS MOS E MICROESTRUTURAS.

Tipo Projeto:

Pesquisa Básica

Situação Projeto:

Em Andamento

Data Início Projeto:

01/2000

Tipo Envolvimento Contrato:

Individual

Descrição Projeto:

ESTUDO DA CAMADA DE SI-POLI PARA PORTA DE ESTRUTURAS MOS E MICROESTRUTURAS.

Instituições

Nome:

Fundação de Anparo ao Pesquisador

Tipo do Financiamento:

Auxílio Financeiro

Nº Processo na Financiadora:

1999/07617-4

Data Início Financiamento:

01/2000

Data Fim Financiamento:

200204

Valor do Financiamento em Reais R$:

160531,92

Órgãos

Orgão:

01.21.00.00.00.00.00 - CENTRO DE COMPONENTES SEMICONDUTORES

Orgão:

29.06.00.00.00.00.00 - DEPTO.DE MAQUINAS COMPONENTES E SISTEMAS INTELIGENTES

Equipes Projeto

IOSHIAKI DOI( Responsável )

Projeto Alterado

Nome Projeto:

ESTUDO DOS PROCESSOS E DE APLICACOES DA IMPLANTACAO IONICA EM MATERIAIS.

Tipo Projeto:

Pesquisa Básica

Situação Projeto:

Em Andamento

Data Início Projeto:

12/1999

Tipo Envolvimento Contrato:

Individual

Descrição Projeto:

ESTUDO DOS PROCESSOS E DE APLICACOES DA IMPLANTACAO IONICA EM MATERIAIS.

Instituições

Nome:

Fundação de Anparo ao Pesquisador

Tipo do Financiamento:

Bolsa

Nº Processo na Financiadora:

1999/10402-0

Data Início Financiamento:

12/1999

Data Fim Financiamento:

200202

Valor do Financiamento em Reais R$:

66320,00

Órgãos

Orgão:

01.21.00.00.00.00.00 - CENTRO DE COMPONENTES SEMICONDUTORES

Orgão:

08.03.00.00.00.00.00 - DEPARTAMENTO DE FISICA APLICADA

Equipes Projeto

Marcelo Assaoka Hayashi( Responsável )

Projeto Alterado

Nome Projeto:

PROJETO, MICROFABRICACAO E CARACTERIZACAO DE DEFLETOR DE LUZ DE SILICIO ACIONADO POR INDUCAO.

Tipo Projeto:

Pesquisa Básica

Situação Projeto:

Em Andamento

Data Início Projeto:

03/2000

Tipo Envolvimento Contrato:

Individual

Descrição Projeto:

PROJETO, MICROFABRICACAO E CARACTERIZACAO DE DEFLETOR DE LUZ DE SILICIO ACIONADO POR INDUCAO.

Instituições

Nome:

Fundação de Anparo ao Pesquisador

Tipo do Financiamento:

Bolsa

Nº Processo na Financiadora:

1999/11115-4

Data Início Financiamento:

03/2000

Data Fim Financiamento:

200202

Valor do Financiamento em Reais R$:

31092,45

Órgãos

Orgão:

01.21.00.00.00.00.00 - CENTRO DE COMPONENTES SEMICONDUTORES

Equipes Projeto

Pedro Ricardo Barbaroto( Responsável )

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