| Nome Projeto: | FILMES FINOS E ULTRA-FINOS DE OXIDO, DE OXINITRETO DE SILICIO E DE NITRETO DE SILICIO OBTIDOS POR DEPOSICAO E OXIDACAO/NITRETACAO EM SISTEMA DE PLASMA REMOTO E SUAS APLICACOES COMO ISOLANTES E CAMADAS... |
|
| Tipo Projeto: | Pesquisa Básica |
| | Situação Projeto: | Em Andamento |
|
| Data Início Projeto: | 07/2000 |
| | Tipo Envolvimento Contrato: | Individual |
|
| Descrição Projeto: | FILMES FINOS E ULTRA-FINOS DE OXIDO, DE OXINITRETO DE SILICIO E DE NITRETO DE SILICIO OBTIDOS POR DEPOSICAO E OXIDACAO/NITRETACAO EM SISTEMA DE PLASMA REMOTO E SUAS APLICACOES COMO ISOLANTES E CAMADAS... |
|
| Instituições | | Nome: | | Fundação de Anparo ao Pesquisador |
|
| Tipo do Financiamento: | Bolsa |
| | Nº Processo na Financiadora: | 2000/00319-7 |
|
| Data Início Financiamento: | 07/2000 |
| | Data Fim Financiamento: | 200105 |
|
| Valor do Financiamento em Reais R$: | 31170,00 |
|
|
|
| Órgãos | | Orgão: | 01.21.00.00.00.00.00 - CENTRO DE COMPONENTES SEMICONDUTORES |
|
|
| Equipes Projeto | | Anna Paula da Silva Sotero( Responsável ) |
|
|