"Formação e caracterização de filmes de silício amorfo hidrogenado depositado por ECR-CVD" (mestrado). Candidato: Hugo da Silva Alvarez. Orientador: professor José Alexandre Diniz. Dia 21 de agosto de 2017, às 14 horas, na FEEC.
Formação e caracterização de filmes de silício amorfo hidrogenado depositado por ECR-CVD
